產品說明：. RF-Generators For Plasma Technology
. 用途／Sputtering, DC-Bias, CVD, Reacitive-lon-Etching
. 同時顯示入射、反射功率，CD-Bias及自動阻抗匹配器內
Tune、Load電容器大小
. Generator和Automatching Box之間用光纖傳送訊號，完全
無R、I、E干擾
. 微電腦面板控制（Local, Real Time, RS-232, Remote）及
安全保護
. 標準配備A/D, RS-232, RS-485界面和測試軟體磁片
. 300W ~ 20KW／13.56MHZ
. DC-Generators For Plasma Technology
. 用途／Sputtering, DE-Bias, ETching
. 可選擇定功率，定電壓或定電流控制
. 微電腦操控面板，可設定並計算每一製程Arc值大小次數及安
全保護
. 標準配備A/D, RS-232/RS-485界面
. 1500W ~ 180KW
. 多坩堝蒸鍍用電子槍
. 插卡式燈絲結構設計，容易更換保養
. 坩堝轉使用紅外線自動旋轉定位，不會偏移
. 4 ~ 12個坩堝，容量自4 ~ 30 cc適合光學鍍膜使用
